ASML
于嘉言/荷蘭維荷芬(Veldhoven)採訪報導
晶圓生產流程中，最重要且關鍵的製程技術，莫過於微影(Lithography)。微影設備機台動輒上千萬，絕對是晶圓製造設備金額花費的前幾名。而微影技術發展從各大廠放棄157奈米乾式微影，轉由採用現今主流的浸潤式微影。儘管如此，浸潤式微影技術還是有其物理極限，因此微影設備供應商皆紛紛投資研發次世代微影技術。ASML認為，極紫外光技術(Extreme Ultraviolet , EUV)是目前唯一能在32奈米以下微影製程達成高產量的技術與機會，而其運用二次圖樣(double pattern)技術的方式，更可以在波長13.5奈米、數值孔徑0.25下，達到k1係數0.59。極紫外光技術未來更可能將波長縮短至僅10奈米，而極紫外光技術應該會在2010年後正式步入量產階段。
ASML市場暨技術行政副總裁Martin van den Brink表示，ASML所提供的TWINSCAN系統為目前市場上佔有率極高的設備。截至目前為止，TWINSCAN已經出貨超過720台以上，僅僅亞洲就有500台以上的成績，市佔率超過60%。而浸潤式微影機台目前總出貨則超過50台以上。
Brink表示，ASML提供各種不同波長、數值孔徑(NA)的KrF、ArF等解決方案，以提供客戶不同世代製程使用。未來，針對次世代奈米製程，ASML將提供極紫外光微影技術，該技術波長僅13.5奈米，在數值孔徑為0.45的狀況下，到2015年k1係數可達0.37。Brink表示，現今超高數值孔徑的浸潤式微影技術，半間距為45奈米，k1係數仍大於0.31，但其解析度(resolution)可到40奈米。
- Jan 07 Thu 2010 19:57
ASML
- Dec 20 Sun 2009 15:43
INSIGHT。2009智慧生活科技饗宴
我們家的電子鼻上報了!!! 
哈哈哈哈
照片是我們實驗室博士後苔瑄姐姐 
http://mag.udn.com/mag/campus/storypage.jsp?f_ART_ID=227313
還有滿面春風的老師~
還有當天參加的SAW團隊照片 http://picasaweb.google.com.tw/Haudaidai/SJYujI#5416599420493142770
嘿嘿嘿嘿嘿嘿 老師 快讓我畢業~~好嗎?
- Nov 24 Tue 2009 20:21
柏斯
明晚的飛機 就要載著妳去實現30歲以前最想做的事
那天寫到半夜的卡片, 寫一寫還真的會忍不住三八地掉眼淚呢!
要好好保重 自己照顧身體
好好體會不一樣的風景
然後等我們明年去找妳吧!!! 這也還不錯吧
我也會想你 哈~
- Oct 13 Tue 2009 00:36
十月份鐵人競賽
我正在參加 「十項全能 的十月熱血鐵人競賽 」
好一段時間沒體驗這種考驗耐力的大活動
連續不斷的行程， 以及虎視眈眈的deadline
已經覺得有點累了 好像有點吃力 
每天對於日期的攀升都難以安穩入睡
- Jun 18 Wed 2008 13:07
畢業季
這是虛偽的畢業文
畢業了 還是算離開工科了
雖然兩年內
我還是會常常踏入工科新館舊館
舞會的煙火 畢典的煙火
每個人盯著夜空那璀璨的煙火究竟在想些什麼
